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mask设计图,mask技术
光刻机怎么制作(最好提供图文)?1、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光...
发布时间:2024-03-26 分类:资讯 浏览:20
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